檢測(cè)限四種常用的表示方式

1.儀器檢測(cè)下限

可檢測(cè)儀器的最小訊號(hào)，通常用信噪比來(lái)表示，當(dāng)信號(hào)與噪聲之比大于等于3時(shí)，相當(dāng)于信號(hào)強(qiáng)度的試樣濃度，定義為儀器檢測(cè)下限。

2.方法檢測(cè)下限

某方法可檢測(cè)的最低濃度。通常用低濃度曲線外推法可求的方法檢測(cè)下限。

美國(guó)EPASW-846中規(guī)定方法檢出限：MDL=3.143δ(δ重復(fù)測(cè)定7次)

3.樣品檢測(cè)下限

相對(duì)于空白可檢測(cè)的樣品最小含量。樣品檢測(cè)下限定義為：其信號(hào)等于測(cè)量空白溶液的信號(hào)的標(biāo)準(zhǔn)偏差的3倍時(shí)的濃度。檢測(cè)下限是選擇分析方法的重要因素。樣品檢測(cè)下限不僅與方法檢測(cè)下限有關(guān)，而且與空白樣品中空白含量以及空白波動(dòng)情況有關(guān)。只有當(dāng)空白含量為零時(shí)，樣品檢測(cè)下限等于方法檢測(cè)下限。然而，空白含量往往不等于零，空白大小受環(huán)境對(duì)樣品的污染，試劑純度、水質(zhì)純度、容器的質(zhì)地及操作等因素的影響。因此，由外推法可求得方法檢測(cè)下限可能很低，但由于空白含量的存在，以及空白含量的波動(dòng)，樣品檢測(cè)下限可能要比方法檢測(cè)下限大得多。從實(shí)用中考慮，樣品檢測(cè)下限較為有用和切合實(shí)際。

4.定量下限

美國(guó)EPASW-846中規(guī)定4MDL為定量下限RQL，即4倍檢出限濃度作為測(cè)定下限，其測(cè)定值的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差約為10%。日本JIS規(guī)定定量下限為10倍的MDL。